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Wissenschaftliche*r Mitarbeiter*in / Doktorand*in / (m/w/d) Atomlagenabscheidung für die Halbleiter-Chiptechnologie
Veröffentlicht am
31.10.2022
Bewerbungsfrist
30.11.2022
Vollzeit-Stelle
Ferdinand-Braun-Institut gGmbH - Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH)
Wissenschaftliche*r Mitarbeiter*in / Doktorand*in / (m/w/d) - Atomlagenabscheidung für die Halbleiter-Chiptechnologie - 46/22
Vollzeit
Gustav-Kirchhoff-Straße 4, 12489 Berlin, Deutschland
Mit Berufserfahrung
27.10.22
Das Ferdinand-Braun-Institut, Leibniz-Institut für Höchstfrequenztechnik (FBH) ist eine anwendungsorientierte Forschungseinrichtung auf den Gebieten der Hochfrequenzelektronik, Photonik und Quantenphysik. Das FBH erforscht elektronische und optische Komponenten, Module und Systeme auf der Basis von Verbindungshalbleitern. Diese sind Schlüsselbausteine für Innovationen in den gesellschaftlichen Bedarfsfeldern Kommunikation, Energie, Gesundheit und Mobilität. Es verfügt über die gesamte Wertschöpfungskette vom Design bis zu lieferfertigen Systemen. Weitere Informationen finden sie unter: www.fbh-berlin.de
In der Abteilung Prozesstechnologie suchen wir für die Gruppe Beschichtungstechnologien Unterstützung im Bereich der Atomlagenabscheidung (ALD).
Kennziffer 46/22
Ihr Aufgaben
An einer modernen Clusteranlage mit ALD-Kammer, zwei Plasmaätzreaktoren und einem Heizmodul entwickeln Sie neue industrietaugliche Prozesse für die Halbleiter-Chiptechnologie. Sie präparieren, charakterisieren und optimieren die dünnen Filme und leisten einen wichtigen Beitrag zur Entwicklung und Verbesserung verschiedener III/V -Bauelemente. Sie kommunizieren Ihre Ergebnisse auf wissenschaftlichen Tagungen und nutzen sie für Ihre Promotion.
Ihr Profil
Abgeschlossenes wissenschaftliches Hochschulstudium in Materialwissenschaft, Physik oder vergleichbaren Disziplinen
Fundierte Kenntnisse in einem oder mehreren der folgenden Bereiche
Atomlagenabscheidung
Fertigungsprozesse der Mikrotechnologie
III/IV-basierte Halbleiterbauelemente
CVD-basierte Abscheidung
Erwartet wird ein hohes Maß an Eigeninitiative, technisches Verständnis und manuelles Geschick sowie die Fähigkeit, selbständig Problemlösungen zu finden
Sie sind ein kommunikativer Mensch mit Teamgeist und begeistern sich für technisch-wissenschaftliche Themen mit starkem Anwendungsbezug.
Vorausgesetzt wird die Eignung zur Arbeit in Reinsträumen sowie der sichere Umgang mit der deutschen und englischen Sprache.
Unser Angebot
Möglichkeit zur Promotion in einer anspruchsvollen, interdisziplinären Tätigkeit bei der Entwicklung von neuartigen Halbleiterbauelementen
ein kollegialer Umgang und ein familienfreundliches Umfeld
eine umfangreiche Infrastruktur in zwei Reinräumen, die alle Möglichkeiten zur kreativen Entfaltung bietet
Anstellung, Vergütung und Sozialleistungen richten sich nach dem Tarifvertrag für den öffentlichen Dienst (TVöD Bund)
Betriebliche Altersvorsorge nach VBL
30 Urlaubstage
flexible Arbeitszeitgestaltung durch Gleitzeit
das FBH unterstützt aktiv die Vereinbarkeit von Familie und Beruf
Ein besonderes Augenmerk kommt der Gleichstellung der Geschlechter zu. Das Institut ist bestrebt, den Anteil von Frauen in diesem Bereich zu erhöhen. Daher sind Bewerbungen von Frauen besonders willkommen. Schwerbehinderte werden bei gleicher Eignung bevorzugt eingestellt. Die Stelle ist zunächst auf 2 Jahre befristet.
Wir freuen wir uns auf Ihre Online-Bewerbung. Bitte klicken Sie dazu auf „Online bewerben“ und übermitteln uns auf diesem Wege Ihre vollständigen Bewerbungsunterlagen bis zum 30.11.2022.
Bei Fragen zur Bewerbung steht Ihnen Frau Kelm gern zur Verfügung: Tel. 030 6392 2691 nadine.kelm@fbh-berlin.de.
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